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光刻胶,又称光致抗蚀剂,具有光化学敏感性。 它的用途是在光的照射下溶解度发生变化,一般以液态涂覆在半导体、导体等基片表面上,...
标签:光刻 胶 什么 用途 又称 光致 抗蚀剂
28 2024-04
在当今半导体产业竟争白灼化的今天,荷兰光刻机的ASML公司宣布实现第100套极紫外光刻系统的出货,至2021年年底就采用EUV光刻机光刻了26...
标签:EUV 光刻机 争夺战 打响 国产 光刻 技术 难题
26 2024-04
光刻胶(英语:photoresist),亦称为光阻或光阻剂,是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射,其溶解度发生变化...
标签:光阻 、 光阻剂 光刻 胶 是 同一个 意思 吗
09 2024-04
光刻之后腐蚀后的线宽。 单线的最小宽度。 也就是表示你的工艺线设备能做到什么程度 附: 特征尺寸即CPU表面电路的特征线宽,我们常说...
标签:半导体 器件 的 特征 尺寸 是指 什么 光刻
06 2024-04
如果中国造出顶级光刻机,当然能制造华为手机芯片。但是由于国外技术封锁,中国制造光科技还有很长的路要走。...
标签:中国 造出 顶级 光刻 机能 制造 华为 手机
01 2024-04